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FSI國際ORION® 單晶圓清洗系統(tǒng)獲得重要半導體制造商訂單

2009年01月06日08:42:13 本網(wǎng)站 我要評論(2)字號:T | T | T
關鍵字:應用 半導體 

FSI國際有限公司(納斯達克:FSII),日前宣布一家重要半導體制造商訂購了該公司的新ORION® 單晶圓清洗平臺。這項訂單表明了該客戶對今年5月FSI發(fā)運的、用于后段(BEOL)32nm開發(fā)項目的評估機臺的認可。該系統(tǒng)特有的閉室設計可解決多個關鍵步驟清洗問題,其中包括控制銅導線中的材料損失和電偶腐蝕(帶有和不帶金屬包覆層),這確保了IC制造商去實現(xiàn)無缺陷下一代銅導線架構。

“該項訂單對于我們的重要性表現(xiàn)在許多層面,”FSI董事長兼首席執(zhí)行官Don Mitchell說道!八隙薕RION對于 32nm應用的關鍵性能,同時表明了該客戶的信念:即使在行業(yè)經(jīng)濟狀況極為不佳的情況下,這些先進性能仍增加了足夠的價值;制造商們正樂于為創(chuàng)新技術投資,不僅是著眼未來,同時也為實現(xiàn)當前的收益!

ORION系統(tǒng)的三維集群構造可提供高產(chǎn)量、高靈活以及較有效的空間使用。在該系統(tǒng)中整合了許多FSI已成熟的核心技術:線上化學品混合與控制、化學藥液動能氣霧和水輸送、彈性地配方程式控制可提供卓越的工藝性能。其模塊化設計可實現(xiàn)多閉室機型,并可通過添加模塊來提高較大產(chǎn)能。

ORION特有的閉室設計同樣解決了前段(FEOL)工藝中發(fā)生的關鍵步驟問題,它允許使用揮發(fā)性的高活性化學材料,在32nm器件制造中單步驟、全濕法去除高劑量注入的光刻膠。通過省去灰化工藝,不僅減少了材料損失,同時還降低了工藝周期、工藝復雜性、機臺數(shù)量以及工藝步驟。

www.fsi-intl.com

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