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盛美新獲4臺SAPS兆聲波單片清洗設(shè)備訂單

2013年04月23日09:58:54 本網(wǎng)站 我要評論(2)字號:T | T | T
關(guān)鍵字:應(yīng)用 半導(dǎo)體 

 

盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司今天宣布2013年第二季度伊始再獲訂單,分別來自上海晶盟硅材料(6寸、8寸各一臺)以及臺灣合晶集團(tuán)(6寸、8寸各一臺)。其中,上海晶盟的訂單為重復(fù)訂單。這四臺清洗機(jī)訂單的成功獲得,標(biāo)志著盛美的單片SAPS兆聲波清洗設(shè)備成功進(jìn)入硅片清洗以及外延片清洗量產(chǎn)客戶。盛美的客戶對購買的清洗機(jī)給予了極高的評價(jià),在使用盛美的清洗設(shè)備后,產(chǎn)品良率得到大幅提升的同時(shí)也降低了生產(chǎn)成本 (CoO)。

 

“這筆訂單的取得對盛美來說無疑是個(gè)重大的里程碑。”盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司的創(chuàng)始人、首席執(zhí)行官王暉博士說,“SAPS兆聲波清洗這一差異性的先進(jìn)技術(shù)的未來應(yīng)用潛力巨大,我們將與我們現(xiàn)在以及未來客戶一起共同努力,迎接新的挑戰(zhàn),開拓新的工藝及應(yīng)用,為半導(dǎo)體拋光片、硅片、以及TSV先進(jìn)封裝提供完美的清洗解決方案。”

 

這四臺單片清洗機(jī)裝備了盛美的SAPS (Space Alternated Phase Shift) 空間交變相移技術(shù)兆聲波技術(shù),該技術(shù)具有極高的顆粒去除效率,并且可以控制硅片表面的能量密度均勻的分布以去除“hot spots”,達(dá)到對器件的無損傷清洗。利用Ultra C™,以純水為介質(zhì)的工藝已經(jīng)能達(dá)到高的顆粒去除效率,并且所有的化學(xué)清洗液均可單獨(dú)回收循環(huán)利用。

 

關(guān)于盛美

盛美半導(dǎo)體設(shè)備公司于1998年在美國硅谷成立,致力于研究無應(yīng)力拋光與鍍銅設(shè)備。2006年9月盛美開始在亞洲發(fā)展,并與上海創(chuàng)投一起成立盛美半導(dǎo)體上海合資公司。公司坐落在上海張江高科技園區(qū),進(jìn)行研究、開發(fā)、工程設(shè)計(jì)、制造以及售后服務(wù)。盛美精于濕式的半導(dǎo)體設(shè)備:無應(yīng)力拋光、鍍銅、與兆聲波單片清洗設(shè)備。盛美具有完整的自主知識產(chǎn)權(quán),已經(jīng)獲得60多個(gè)國際專利,還有100多個(gè)專利正在申請中。盛美可以為客戶提供可靠的先進(jìn)技術(shù)解決方案以及世界一流的售后服務(wù),降低設(shè)備的擁有成本。

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