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Vishay推出突破性P溝道功率MOSFET SiB457EDK

2009年09月17日11:20:04 本網(wǎng)站 我要評(píng)論(2)字號(hào):T | T | T
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      日前,Vishay Intertechnology, Inc.宣布,推出一款業(yè)界較低導(dǎo)通電阻的新型20V P溝道功率MOSFET——SiB457EDK,這是以往1.6mm×1.6mm占位面積的P溝道器件所不曾實(shí)現(xiàn)的。新型SiB457EDK采用了TrenchFET Gen III P溝道技術(shù),該技術(shù)利用自對(duì)準(zhǔn)工藝制程,在每平方英寸的硅片上裝進(jìn)了十億個(gè)晶體管單元。該項(xiàng)前沿技術(shù)可實(shí)現(xiàn)極其精細(xì)、亞微米線寬工藝,將目前業(yè)界P溝道MOSFET的較低導(dǎo)通電阻減小了將近一半。

      隨著這種新器件的發(fā)布,采用四種表面貼裝封裝類型的TrenchFET Gen III P溝道功率MOSFET現(xiàn)已供貨,其中包括耐熱增強(qiáng)型PowerPAK SO-8封裝,它可在SO-8占位面積中實(shí)現(xiàn)低至1.9mΩ的業(yè)界較低的導(dǎo)通電阻。SiB457EDK采用PowerPAK SC-75封裝,是該系列中是迄今較小的器件,在1.6mm×1.6mm占位面積中實(shí)現(xiàn)了業(yè)界較低的導(dǎo)通電阻。其RDS(on)值從4.5V的35mΩ到1.5V的130mΩ。與具有相同額定電壓的較接近的P溝道器件相比,這些新的SiB457EDK在4.5V和2.5V電壓下的導(dǎo)通電阻降低了42%,在1.8V電壓下的導(dǎo)通電阻則降低了46%。


      TrenchFET Gen III P溝道MOSFET有助于在各種應(yīng)用中節(jié)約能源,如筆記本電腦和工業(yè)/通用系統(tǒng)中的適配器和負(fù)載開關(guān),以及手機(jī)、智能手機(jī)、PDA和MP3播放器等便攜式設(shè)備的充電電路中的負(fù)載開關(guān)。每平方英寸裝入十億個(gè)單元的工藝實(shí)現(xiàn)了低導(dǎo)通電阻,這項(xiàng)重大技術(shù)突破意味著更低的傳導(dǎo)損耗、節(jié)省功耗和延長(zhǎng)兩次充電之間的電池壽命。下表總結(jié)了目前發(fā)布的TrenchFET Gen III P溝道器件的主要規(guī)格。


      SiB457EDK規(guī)定了四個(gè)柵極至源極電壓條件下的導(dǎo)通電阻額定值,包括使設(shè)計(jì)以較小的輸入電壓實(shí)現(xiàn)較高的安全裕量的1.5V額定值。同時(shí),其緊湊的PowerPAK SC-75封裝可減少電源電路所需的空間,為其他產(chǎn)品功能或?qū)崿F(xiàn)更小的較終產(chǎn)品開辟了空間。SiB457EDK還采用了2500V典型ESD保護(hù),可減少現(xiàn)場(chǎng)故障,同時(shí)具有在VGS = 8V條件下僅為5μA的低漏電流。


      P溝道TrenchFET Gen III功率MOSFET系列為無鹵素產(chǎn)品,符合IEC 61249-2-21、RoHS指令2002/95/EC,以及100%的Rg測(cè)試要求。


      新型SiB457EDK TrenchFET功率MOSFET已提供樣品,并已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),大宗訂單的交貨時(shí)間為10至12周。

 

 


 

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