集成電路產(chǎn)業(yè)是信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心，是支撐經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展和保障國家安全的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性的產(chǎn)業(yè)。近年來，國家投入巨資發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)，作為集成電路產(chǎn)業(yè)核心的制造業(yè)也得到了蓬勃的發(fā)展，當(dāng)前和今后一段時(shí)期是我國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要戰(zhàn)略機(jī)遇期和攻堅(jiān)期�；�于這樣的形勢(shì)，國家集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟決定在北京組織、主辦首屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)（International Workshop on Advanced Patterning Solutions），本次研討會(huì)由中國科學(xué)院微電子研究所承辦。

舉辦時(shí)間：2017年10月12日至13日（兩天）

舉辦地點(diǎn)：北京國際會(huì)議中心

詳細(xì)地址：北京市朝陽區(qū)北辰東路8號(hào)

主辦單位：集成電路產(chǎn)業(yè)記住創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟

承辦單位：中科院微電子研究所

官方網(wǎng)址：www.iwaps.org/cn

擬邀請(qǐng)報(bào)告：

作為在中國大陸舉辦的首個(gè)此類研討會(huì)，本次研討會(huì)和其它國際光刻會(huì)議（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，會(huì)議以當(dāng)前業(yè)界較先進(jìn)的主流技術(shù)為主，其目的是研討未來五年光刻技術(shù)所面臨的問題，歸納、總結(jié)出業(yè)界可行的技術(shù)方案，為來自國內(nèi)外光刻領(lǐng)域的優(yōu)秀研究人員和工程師搭建一個(gè)深入討論的技術(shù)交流平臺(tái)，參會(huì)者能夠就設(shè)計(jì)規(guī)則、極紫外光刻、掩模、光刻技術(shù)方案、計(jì)算光刻等分享、探討各自的研究成果。作為中國國內(nèi)的首個(gè)高端光刻技術(shù)研討會(huì)，本次研討會(huì)的受邀發(fā)言者均為來自光刻及其相關(guān)領(lǐng)域的國內(nèi)、外資深專家，代表了其所在領(lǐng)域的國際先進(jìn)水平。而數(shù)量眾多的業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的國內(nèi)、外知名參會(huì)企業(yè)也讓報(bào)告更加豐富，也更貼近產(chǎn)業(yè)。