東芝和NuFlare榮獲第59屆大河內紀念生產獎
--因開發并應用LSI光罩直寫設備而獲此嘉獎--
東芝公司(Toshiba Corporation) (TOKYO:6502)和NuFlare Technology, Inc. (NFT) (JASDAQ:6256)因共同開發并實際應用電子束(EB)光罩直寫設備(mask writer)榮獲第59屆大河內紀念生產獎(The 59th Okochi Memorial Grand Production Prize),頒獎典禮將于
大規模集成電路(LSI)使用平版印刷工具制造,用于將主電路圖案投射到晶圓上并進行收縮。主電路圖案較初通過電子束光罩直寫設備寫入光罩上。此前,大部分電子束光罩直寫設備都使用點波束來寫入圖案,但需要通過縮放LSI使其變小。這就增加了光罩的寫入時間,成為提高光罩制作效率的主要難題。
東芝和NFT合力開發出一種實用的電子束光罩直寫設備,其寫入精度和效率均有所提高。該電子束光罩直寫設備利用了可變形狀束(VSB)光罩寫入方法,可將電子束塑造成所需形狀填充到圖案中。
兩家公司研制了一種新穎的公式與計算系統,能夠更快、更精準地校正近距離效果,避免了出現來自光罩基底的散射電子改變電子束曝光,從而降低光罩圖樣精確度的現象。此前的技術需要數天時間進行計算,從而將目標計算誤差控制在0.5%以內。新公式將計算時間縮短到1小時內,從而能夠將實時計算與圖案寫入(電子束掃描和工具階段性運動)進行調整。
高亮度電子源的開發與應用縮短了光罩寫入時間。這一點是通過改善電子源材料和操作條件來提升亮度(一定時間內放出的電子數量)而實現的。這較終將電子束曝光到光罩上所需的時間縮短了95%,進而大幅縮短寫入時間。
雙方公司將繼續推進創新技術,以期滿足對精度和效率更高的光罩直寫設備高漲的需求。
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東芝成立于1875年,如今運營有一個由550多家各級公司組成的全球網絡,在全球擁有202,000名員工,年銷售額逾6.1萬億日元(約合740億美元)。請訪問東芝網站:www.toshiba.co.jp/index.htm
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